第347章收购芯片公司
造工艺：使非常的颗粒快速沉积，实高效、低本的芯片制造1。
EUV光刻
光刻 ：使极紫外光（EUV）进高经度光刻，制造先进芯片。
本降低
纳米增材制造 ：新工艺将制造本降低至传统技术的1%。
芯片产是一个高度集技术密集的程，需经密的设备严格的质量控制。随技术的展，新的制造工艺纳米增材制造EUV光刻正在不断进步，有望进一步降低芯片产本，提高产效率。
EUV光刻
光刻 ：使极紫外光（EUV）进高经度光刻，制造先进芯片。
本降低
纳米增材制造 ：新工艺将制造本降低至传统技术的1%。
芯片产是一个高度集技术密集的程，需经密的设备严格的质量控制。随技术的展，新的制造工艺纳米增材制造EUV光刻正在不断进步，有望进一步降低芯片产本，提高产效率。